一种纳米晶-非晶双相复合涂层及其制备方法

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简介

本创新涉及一种金属材料及其制备方法,通过磁控溅射过程一次性沉积金属涂层。涂层厚度可在0.5~50微米范围调节,20厘米×30厘米大面积的镀膜均匀区拓宽了该涂层的工业应用。

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商品化机会
可展示完整的试验系统
解决方案

由于反霍尔-佩奇效应以及形变过程中剪切带的软化效应,单相纳米晶合金和单相金属玻璃通常在小于2 %的应变下发生软化,能承受的最大应力约为E/85~E/50。因此,这些材料的强度很难达到E/20的理论强度值。

创新技术
  • 本创新为一种原位形成的具有非晶-纳米晶双相结构的镁基合金,其3.3 GPa的超高强度是至今报道的最强镁合金的3倍,达到理论强度值,并打破常温下材料的尺寸效应。
  • 这种纳米双相-玻璃纳米晶材料可以制备成100毫米x 100 毫米x 10 微米以上的尺寸,这要大于传统的近乎理想强度的材料。 因此,有利于该材料在大面积上作为涂层的应用。
  • 通过调节磁控溅射的工艺参数,这种创新的制备方法容易控制纳米晶-非晶双相(NDP-GC)结构的成分和涂层厚度,从而拓宽这种具有理论强度的材料在金属薄膜领域的应用。
主要成效
  • 纳米材料的大面积应用
  • 容易控制纳米晶-非晶双相(NDP-GC)结构材料的成分和涂层厚度
  • 拓宽了具有理论强度的材料在金属薄膜领域的应用
  • 性能优异的可生物降解材料,可用于生物植入体;具有优异的力学性能,可用作其它轻质材料
奖项
  • 该研究成果作为封面文章在《自然》杂志上发表(2017年)
应用范畴
  • 用于笔记本电脑、智能手机、柔性电子产品的耐磨表面涂层
  • 高强度的微机电系统器件
  • 3D打印结构
  • 用于骨科手术的镁基植入体

专利申请

  • 美国专利:US 10,895,006
  • 美国专利:US10,428,418
  • 美国专利:US 11,168,401
香港城市大学

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